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  • 產品名稱:原子層沉積係統

  • 產品型號:SAL1000G
  • 產品廠商:Augs
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簡單介紹:
原子層沉積係統SAL1000G是一款包含手套箱小型桌麵ALD原子層沉積係統,具有良好的均勻性及優越的階梯覆蓋性能,使用戶能夠控製每個原子層的沉積。通過手套箱,可在惰性氣體環境下進行操作,並且可以防止吸入納米級顆粒。該設備是小型且經濟實惠的型號,與主機和控製電源相結合,追求僅在桌麵上更容易操作。 它能夠處理多達4“晶圓的沉積,並對每個部件采取保護措施
詳情介紹:

AGUS提供沉積測試服務作為我們支持的一部分,以提高實驗準確性。請隨時與凱戈納斯儀器商貿(上海)有限公司聯係。

多樣性 -

· 真空可移動的手套箱可以處理易氧化的樣品。

· 前驅體標配兩組閥門和氣瓶。

· 可選擇將前驅體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動旋轉支架。

· 可選擇粉體沉積配件。

· 可選擇經濟實惠的廢氣處理設備。

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表現 -

· 保證基片表麵上的每個均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表麵。

· 與CVD和PVD相比,可以獲得更好的沉積,特彆是對於具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

操作界麵友好 -

· 觸摸屏使用戶可以輕鬆設置配方或沉積過程,並檢查每個驅動係統的運動。

· 可進行自動沉積,並在沉積完成後自動完成N2排放。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

**性 -

· 這是具有各種互鎖功能的上等設備。

 - 具有輕柔關閉功能的頂部艙口使用戶可以輕鬆地裝載和卸載基片。

 

性能

真空度

到達壓力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

設備構成

設備型號

SAL1000G

成膜方向

下表麵

基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max

基底加熱器溫度

350℃ Max

前驅體數

2

前驅體溫度

150℃ Max

淨化氣體

N2 (氣體控製:帶流量計針型閥)

手套箱

有機玻璃,真空-氮氣吹掃式

真空泵

162L/min 旋片式真空機械泵

重量

本體:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg

可選配置

基片自動旋轉支架

粉體沉積配件

廢氣處理設備

前驅體加熱器- 200℃

安裝要求

電源要求

電源

3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

接地

<100Ω

線纜

5m 附贈

N2吹掃氣體

供給壓力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok

壓縮空氣

供給壓力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口

真空泵排氣口

排氣口

KF-25法蘭

設備排氣口

排氣口

φ38mm x   L28軟管適配器

安裝尺寸

W1000 x D700 x H900

 

 

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