AGUS提供沉積測試服務作為我們支持的一部分,以提高實驗準確性。請隨時與凱戈納斯儀器商貿(上海)有限公司聯係。
- 多樣性 -
· 真空可移動的手套箱可以處理易氧化的樣品。
· 前驅體標配兩組閥門和氣瓶。
· 可選擇將前驅體加熱至200攝氏度。
· 可選擇基片自動旋轉支架。
· 可選擇粉體沉積配件。
· 可選擇經濟實惠的廢氣處理設備。
- 表現 -
· 保證基片表麵上的每個均勻原子層針孔自由層沉積。
· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表麵。
· 與CVD和PVD相比,可以獲得更好的沉積,特彆是對於具有更高縱橫比和多孔沉積材料。
- 操作界麵友好 -
· 觸摸屏使用戶可以輕鬆設置配方或沉積過程,並檢查每個驅動係統的運動。
· 可進行自動沉積,並在沉積完成後自動完成N2排放。
· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。
- **性 -
· 這是具有各種互鎖功能的上等設備。
- 具有輕柔關閉功能的頂部艙口使用戶可以輕鬆地裝載和卸載基片。
性能 |
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真空度 |
到達壓力 |
≤5Pa |
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成膜性能 |
膜厚分布 |
≤± 3% (φ 100mm) |
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設備構成 |
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設備型號 |
SAL1000G |
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成膜方向 |
下表麵 |
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基底尺寸 |
φ 100mm or 4 inch Max |
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基底加熱器溫度 |
350℃ Max |
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前驅體數 |
2 |
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前驅體溫度 |
150℃ Max |
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淨化氣體 |
N2 (氣體控製:帶流量計針型閥) |
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手套箱 |
有機玻璃,真空-氮氣吹掃式 |
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真空泵 |
162L/min 旋片式真空機械泵 |
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重量 |
本體:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg |
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可選配置 |
基片自動旋轉支架 粉體沉積配件 廢氣處理設備 前驅體加熱器- 200℃ |
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安裝要求 |
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電源要求 |
電源 |
3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz |
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接地 |
<100Ω |
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線纜 |
5m 附贈 |
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N2吹掃氣體 |
供給壓力 |
0.1 ~.0.2Mpa |
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接口 |
1/4 Swagelok |
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壓縮空氣 |
供給壓力 |
0.6 ~0.8Mpa |
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接口 |
φ6mm 接口 |
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真空泵排氣口 |
排氣口 |
KF-25法蘭 |
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設備排氣口 |
排氣口 |
φ38mm x L28軟管適配器 |
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安裝尺寸 |
W1000 x D700 x H900 |