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原子层沉积系统

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产品名称: 原子层沉积系统
产品型号: SAL1000G
产品展商: Augs

简单介绍

原子层沉积系统SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号,与主机和控制电源相结合,追求仅在桌面上更容易操作。 它能够处理多达4“晶圆的沉积,并对每个部件采取安全措施


原子层沉积系统的详细介绍

AGUS提供沉积测试服务作为我们支持的一部分,以提高实验准确性。请随时与凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司联系。

多样性 -

· 真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。

· 前驱体标配两组阀门和气瓶。

· 可选择将前驱体加热至200摄氏度。

· 可选择基片自动旋转支架。

· 可选择粉体沉积配件。

· 可选择经济实惠的废气处理设备。

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表现 -

· 保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。

· 通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。

· 与CVD和PVD相比,可以获得更好的沉积,特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。

操作界面友好 -

· 触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程,并检查每个驱动系统的运动。

· 可进行自动沉积,并在沉积完成后自动完成N2排放。

· 手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。

安全性 -

· 这是具有各种互锁功能的上等设备。

 - 具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。

 

性能

真空度

到达压力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

设备构成

设备型号

SAL1000G

成膜方向

下表面

基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max

基底加热器温度

350℃ Max

前驱体数

2

前驱体温度

150℃ Max

净化气体

N2 (气体控制:带流量计针型阀)

手套箱

有机玻璃,真空-氮气吹扫式

真空泵

162L/min 旋片式真空机械泵

重量

本体:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg

可选配置

基片自动旋转支架

粉体沉积配件

废气处理设备

前驱体加热器- 200℃

安装要求

电源要求

电源

3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

接地

<100Ω

线缆

5m 附赠

N2吹扫气体

供给压力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok

压缩空气

供给压力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口

真空泵排气口

排气口

KF-25法兰

设备排气口

排气口

φ38mm x   L28软管适配器

安装尺寸

W1000 x D700 x H900

 

 

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